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    光刻系统

    • SPIN-1200T匀胶机
    • SPIN-1200T匀胶机
    SPIN-1200T匀胶机SPIN-1200T匀胶机

    SPIN-1200T匀胶机

    匀胶机
    匀胶机有很多种称谓,英文叫Spin Coater或者Spin Processor,又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机,总的来说,他们原理都是一样的,既在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。
    匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。匀胶机可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蚀中也被广泛使用。

    由我司提供的匀胶机,在高校、研究所及半导体产业享有很高的声誉,相信能满足您多种不同应用要求。


    产地:韩国MIDAS公司,
    型号:SPIN-1200T
    厂家链接:http://www.midas-china.com.cn/

    SPIN-1200T

    触摸面板控制,各种涂层溶液的紧凑单元,可编程配方管理,操作简单

    ?匀胶机

    ?基板尺寸:小于等于4英寸

    ?转速:300~7000 rpm(空载时),误差小于3%(海外10000 rpm)

    ?菜单程序:50步,50个配方

    ?卡盘材料:改性铝、缩醛

    ?碗尺寸:8英寸

    ?碗材料:聚丙烯

    ?尺寸(mm)230(宽)*340(深)*260(高)


    应用范围:
    可用于光刻胶(PR),聚酰亚胺(Polyimide),金属有机物(Metallo-organics),搀杂剂(Dopant),硅薄膜(Silica Film),以及大多数的有机溶液、水溶液;

    全自动的匀胶及显影工艺必需的全自动Chip生产设备:
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